问答题
简答题
简述HPCVD工艺的五个步骤
【参考答案】
（1）离子诱导淀积：指离子被托出等离子体并淀积形成间隙填充的现象
（2）溅射刻蚀：具有一定能量的Ar和因为硅片......
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