填空题
UO2+x在氧化气氛中可形成（）型非计量化合物，可形成（）型半导体，缺陷浓度与氧分压的1/6次方成（），如果减少周围氧气的分压，UO2+x的密度将（）
【参考答案】
阴离子间隙型；P；正比；增大
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晶体的对称要素中微观对称要素种类有（） -
单项选择题
可以根据3T曲线求出熔体的临界冷却速率。熔体的临界冷却速率越大，就（）形成玻璃。
A.越难
B.越容易
C.很快
D.缓慢
