欢迎来到在线考试题库网
在线考试题库官网
登录
注册
首页
医学类
建筑类
财经类
全部科目
>
大学试题
>
工学
>
电子与通信技术
>
集成电路技术
>
集成电路工艺原理
搜题找答案
判断题
制备光刻掩膜版，希望黑白区域间的过渡区越大越好。
【参考答案】
错误
(↓↓↓ 点击‘点击查看答案’看答案解析 ↓↓↓)
点击查看答案&解析
上一题
目录
下一题
相关考题
判断题
在紫外光曝光、X射线曝光、电子束曝光技术中可实现直写式曝光不需要掩模版的是X射线曝光技术。
判断题
通常称在低阻衬底材料上生长高阻外延层的工艺为正向外延，反之称为反向外延。
判断题
PSG高温回流需要的温度要比BPSG高。
关注
顶部
微信扫一扫,加关注免费搜题
